新しい光学技術の開発と応用が基礎となって、機械工学、機器製造、輸送、電気工学、ライフサイエンス、医療工学などの他の分野における革新的なソリューションが多くもたらされてきました。新しい光学部品の開発では、生産設備の準備に先立ち高度な技術的ノウハウと大きな投資が必要です。したがって、知的財産保護戦略では、将来の開発の成功を確実にするために、開発に関わる様々な側面を考慮に入れることが不可欠です。

光学技術は、ダイオードと固体レーザー、フェムトニクス、ディスプレイ技術、発光ダイオード（LED / OLED）、光学データ記憶、バイオフォトニクス、太陽光発電、EUV光源、センサーと分析、光学スイッチング素子、ホログラフィー、情報通信技術のために用いられてきました。

特許発明は、競合他社が特許権を侵害することを禁じている点でこそ意義を持ちます。特許権の保護範囲は登録された特許請求の範囲によって定義され、この定義は特許侵害訴訟において極めて重要です。発明を最適な状態で保護するためには、発明の概念を可能な限り抽象的な方法で定義する必要があります。しかしながら、そのような抽象的定義は審査官により多くの先行技術を引用させる可能性があります。したがって経験豊富な代理人は、より広い保護範囲と特許化の容易さとのバランスをとって特許請求の範囲を記述するように細心の注意を払います。発明を最大限に一般化した概念と発明の典型との間のレベルにある一般化した発明をいくつか予備的に準備することにより、できるだけ広い範囲で発明を保護することが可能となります。