광공학

많은 경우 새로운 광학 기술의 개발과 적용은 기계 공학 및 장치 장비 제조, 운송, 전기 공학, 생명 과학 및 의학 공학과 같은 다른 분야의 혁신적인 솔루션의 전제 조건입니다. 새로운 광학 부품을 개발하기 위해서는 부품을 생산 준비하기 전에 고도의 기술적 노하우와 주요 재정적 투자가 필요합니다. 따라서 미래의 성공적인 개발을 보장하기 위해 지적 재산 보호 전략이 혁신의 모든 관련 측면을 고려하는 것이 필수적입니다.

광학 기술의 개발 및 사용은 다이오드 및 고체 레이저, femtonics, 디스플레이 기술, 발광 다이오드 (LED / OLED), 광학 데이터 저장, 바이오 포토닉스, 광전지, EUV 소스, 센서 및 분석, 정보 및 통신 기술을 위한광학 스위칭 소자 뿐만 아니라 홀로그램에 집중됩니다.

등록된 특허는 경쟁사가 그 특허를 자유롭게 모방하는 것을 방지할 때만 의미가 있습니다. 등록 특허의 청구 범위에 의해 제공되는 권리 범위는 특허 침해 소송에서 결정적으로 중요합니다. 발명에 대한 최적의 보호를 얻으려면 독창적인 아이디어를 가능한한추상적인 방식으로 기술해야 합니다. 그러나 이와 같은 기술은 심사관이 출원 발명과 관련하여 인용할 수 있는 선행 기술의 범위를 넓힐 수 있습니다. 따라서 숙련된 변호사는명세서 및 청구서를 작성할 때 한편으로는 권리 범위, 다른 한편으로는 특허 허여 가능성 사이에 적절한 균형을 찾는 데 많은 주의를 기울일 것입니다. 일반 아이디어와 아이디어의 실질적인 구현의 중간에 놓인 다수의 실시예 (fall-back 실시예)를 추가하면 특허가 최대한 큰 권리범위를 부여 받도록 보장 할 수 있습니다.